Makale detayı · 2026 · article
HfO2 barrier layers: Thickness-dependent corrosion protection of copper thin films for potential microelectronic applications with sweat contact
ISSN0026-2714
YÖKSİS
OpenAlex
Yıl2026
Atıf1OpenAlex
Atıf0Semantic Scholar
Yüzdelik%38,9
FWCI0,181,00 = dünya ortalaması
Scopus (SJR)Q2
WoS (JCR)Q3
Veri kaynağı ayrımı
- YÖKSİSYÖKSİS makale kaydı
- YÖKSİS dergi adıMICROELECTRONICS RELIABILITY
- Katalog eşleşmesi (ISSN)Microelectronics Reliability
- OpenAlexOpenAlex zenginleştirmesi (özet, atıf, konular)
- Semantic Scholaratıf sayısı (OpenAlex ile birleştirilmez)
Özet
Özet henüz derlenmedi; DergiPark / OpenAlex kuyruğu işlenince burada görünecek.
Konular
Atıflar
OpenAlex cited_by_count. WoS veya Scopus atıf sayısı değildir; o kaynaklar için ayrı kolon yoktur.
1atıfOpenAlex · cited_by_count (önbellek / veritabanı)