İçeriğe geç
akaturk Akademik ölçüm

Makale detayı · 2019

Solid phase epitaxial thickening of boron and phosphorus doped polycrystalline silicon thin films formed by aluminium induced crystallization technique on glass substrate

Dergi

Thin Solid Films

ISSN 0040-6090

YÖKSİS OpenAlex Açık erişim · green SJR Q2 JCR Q3 Atıf 8 Yüzdelik 55.9% FWCI 0.28
Yıl
2019
Tür
article

Veri kaynağı ayrımı

  • YÖKSİS YÖKSİS makale kaydı
  • YÖKSİS dergi adı THIN SOLID FILMS
  • Katalog eşleşmesi (ISSN) Thin Solid Films
  • OpenAlex OpenAlex zenginleştirmesi (özet, atıf, konular)

Özet

Bu makale için OpenAlex özet kaydı henüz yok.

Konular

  • Thin-Film Transistor Technologies
  • Silicon and Solar Cell Technologies
  • Silicon Nanostructures and Photoluminescence

Birincil konu Thin-Film Transistor Technologies

Yazarlar

  1. ÖZGE TÜZÜN ÖZMEN İZMİR BAKIRÇAY ÜNİVERSİTESİ
  2. MEHMET KARAMAN
  3. SALAR HABİBPUR SEDANİ
  4. HÜSEYİN MUZAFFER ŞAĞBAN
  5. RAŞİT TURAN ORTA DOĞU TEKNİK ÜNİVERSİTESİ
  6. CEM DİREKOĞLU ORTA DOĞU TEKNİK ÜNİVERSİTESİ